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4工业超纯水设备
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电子半导体行业超纯水设备
 
设备参数:
原水:自来水、井水、地下水、中水;
进水压力:0.2~0.3MPa;
运行压力:0.3~1.5MPa;
控制:全自动控制;
材质:UPVC/304/316L/clpvc;
工艺:二级反渗透膜+电去离子(EDI);
产水量:0.25~200T/H(根据客户需求而定);
产水电阻率:18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、5MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm;

电子半导体超纯水设备优点:
1.无需酸碱再生:在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生,而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作,?;ち嘶肪?。
2.连续、简单的操作:在混床中由于每次再生和水质量的变化,使操作过程变得复杂,而EDI的产水过程是稳定的连续的,产水水质是恒定的,没有复杂的操作程序,操作大大简便化。
3.降低了安装的要求:EDI系统与相当处理水量的混床相比,有较小的体积,它采用积木式结构,可依据场地的高度和宽度灵活的构造。??榛纳杓?,使EDI在生产工作时能方便维护 。


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